Growth of High Quality, MOCVD Grown Ga-Polar GaN Layers on GaN Substrates after Novel Ion Etching
- Afiliacje: SL1, SL1.2
- Data opublikowania (wydrukowania): 16-11-99
- Strony: 573-577
- Wolumin: 176
- Autor: Weyher J. L., Zauner A. R. A., Brown P. D., Karouta F., Barcz Adam, Wojdak M., Porowski S.
- Tytuł publikacji: Growth of High Quality, MOCVD Grown Ga-Polar GaN Layers on GaN Substrates after Novel Ion Etching
- DOI: https://doi.org/10.1002/(SICI)1521-396X(199911)176:1<573::AID-PSSA573>3.0.CO;2-A
- Rok: 1999
- Czasopismo / konferencja / monografia: Physica Status Solidi A - Applied Research (CLOSED 2004)