Magnetron device for sputtering target
- Tytuł patentu lub wzoru użytkowego: Magnetron device for sputtering target
- Tytuł patentu lub wzoru użytkowego (EN): Magnetron device for sputtering target
- Autorzy: Andreas Glenz (PREVAC), Krzysztof Fronc, Michał Chojnacki
- Urząd Patentowy i szczegóły prawa wyłączności: European Patent Office - EP4283011, data nadania 21.08.2024